通辽科技大市场暨内蒙古东部常设技术市场

设备名称：反应离子刻蚀机 

仪器型号：RIE-502 

所属单位：西北工业大学-微/纳米系统实验室 

设备原值：58 万元 

制造厂商：北京创威纳科技有限公司 

生产国别：中国 

当前状态：对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 1.极限真空： 4.0×10-4 Pa2.刻蚀材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室规格: φ300´100 4.电极尺寸: φ200mm5.刻蚀速率： 0.1 ~ 1μ/min  

功能/应用范围 用于MEMS浅槽刻蚀工艺  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年)   

收费标准（元/样品）   

联系方式 

联系人 马志波  

联系电话 029-88495102-8031  

传真 029-88495102  

电子邮件 zbma@nwpu.edu.cn