设备名称:低压化学气相沉积炉
仪器型号:4374卧式
所属单位:西北工业大学-微/纳米系统实验室
设备原值:200 万元
当前状态:对外服务
仪器设备详细指标
主要技术指标 适用硅片:4吋工艺管数:3 控制方式:微机控制 恒温区长度:标准300mm温区 沉积膜种类:Si3N4, Poly-Si, SiO2 沉积膜厚度:1000~6000埃 沉积膜均匀性: 片内 片间 批间 Si3N4 ±5﹪ ±5﹪ ±5﹪ Poly-Si ±5﹪ ±5﹪
功能/应用范围 用于4”硅片Poly-Si、SiO2、PSG、BPSG等薄膜生长工艺
服务领域 农/林/牧/渔 轻工/纺织 石油/石化 食品/烟草 地质/矿产 矿业/冶金 钢铁/有色金属 水文气象 非金属/珠宝 橡胶/塑料(材料) 通信/邮政 机械制造 医疗/卫生 生物/医药 地质勘探 电气工程 仪器/仪表 航空/航天 电子/信息技术 交通/运输(公路/铁路) 环保/水利/气象/天文 其它
技术特色
服务情况及收费标准
对外服务(平均机时/年)
收费标准(元/样品)
联系方式
联系人 马志波
联系电话 029-88495102-8031
传真 029-88495102
电子邮件 zbma@nwpu.edu.cn
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