金属多层膜磁控溅射控制系统
发布日期:2014/11/10 15:47:54
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设备名称:金属多层膜磁控溅射控制系统 

仪器型号:JPG560BV 

所属单位:西北工业大学-微/纳米实验室 

设备原值:25 万元 

制造厂商:中国科学院沈阳科学仪器研制 

生产国别:中国 

当前状态:对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 均匀性<10% 溅射金、铝、铜等多种金属  

功能/应用范围 通过磁控使金属离子溅射到硅片上。溅射的金属有铝、铜、镍、铬、钛、银、金。  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年) 150  

收费标准(元/样品) 300  

联系方式 

联系人 马志波  

联系电话 029-88495102-8031  

传真 029-88495102  

电子邮件 zbma@nwpu.edu.cn  

 

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