设备名称:管式生长炉
仪器型号:CVD-09502/ CVD(D)-12/50/2
所属单位:西安交通大学
制造厂商:合肥日新
生产国别:中国
当前状态:对外服务
仪器设备详细指标
主要技术指标 技术参数: 1.A管高温区最高温度:1650℃;低温区最高温度:1300℃ 2.A管高温区工作温度:1300-1500℃;低温区工作温度:1100-1250℃ 3.B管高温区最高温度:1100℃;低温区最高温度:1100℃ 4.B管高温区工作温度:800~1050℃;低温区工作温度:800~1050℃ 5.控温精度:±1℃ 主要特点 1.A炉管实际尺寸: Φ90(外径)×1450mm (石英) 2.B炉管实际尺寸: Φ120(外径)×1450mm (刚玉) 3.进口单回路智能温度控制仪ID参数自整定、超温、欠温、断偶报警保护 4.加热元件:优质U型硅钼棒(1800型)、进口KTL电阻丝 5.真空工作模式 6.多种工艺气路,实现多种薄膜材料制备
功能/应用范围 专门设计用于高(低)温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)的气氛烧结等。
服务领域 农/林/牧/渔 轻工/纺织 石油/石化 食品/烟草 地质/矿产 矿业/冶金 钢铁/有色金属 水文气象 非金属/珠宝 橡胶/塑料(材料) 通信/邮政 机械制造 医疗/卫生 生物/医药 地质勘探 电气工程 仪器/仪表 航空/航天 电子/信息技术 交通/运输(公路/铁路) 环保/水利/气象/天文 其它
技术特色
服务情况及收费标准
对外服务(平均机时/年)
收费标准(元/样品)
联系方式
联系人 王久洪
联系电话 13201543166
传真 029-83395052
电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
【 纠 错 】 【加入收藏】【打印本页】【关闭窗口】