管式生长炉
发布日期:2015/3/25 14:48:15
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设备名称:管式生长炉 

仪器型号:CVD-09502/ CVD(D)-12/50/2 

所属单位:西安交通大学 

制造厂商:合肥日新 

生产国别:中国 

当前状态:对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 技术参数: 1.A管高温区最高温度:1650℃;低温区最高温度:1300℃ 2.A管高温区工作温度:1300-1500℃;低温区工作温度:1100-1250℃ 3.B管高温区最高温度:1100℃;低温区最高温度:1100℃ 4.B管高温区工作温度:800~1050℃;低温区工作温度:800~1050℃ 5.控温精度:±1℃ 主要特点 1.A炉管实际尺寸: Φ90(外径)×1450mm (石英) 2.B炉管实际尺寸: Φ120(外径)×1450mm (刚玉) 3.进口单回路智能温度控制仪ID参数自整定、超温、欠温、断偶报警保护 4.加热元件:优质U型硅钼棒(1800型)、进口KTL电阻丝 5.真空工作模式 6.多种工艺气路,实现多种薄膜材料制备  

功能/应用范围 专门设计用于高(低)温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)的气氛烧结等。  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年)   

收费标准(元/样品)   

联系方式 

联系人 王久洪  

联系电话 13201543166  

传真 029-83395052  

电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn  



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