通辽科技大市场暨内蒙古东部常设技术市场

设备名称：双面对准曝光机 

仪器型号：350/NUV/DCCD 

所属单位：西安交通大学 

制造厂商：ABM 

生产国别：美国 

当前状态：对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 最小线条：0.6μm；光强均匀性：±2%；CCD放大倍数：9X-600X；套刻精度：± 0.5μm；背面对准精度：±1μm；支持四种曝光模式：接近、软接触、硬接触、真空；具有硅片自动找平功能；键合对准装置可与键合机配套使用。  

功能/应用范围 用于电子封装、光电设备、探测器、MEMS 和MOEMS设备显示器。  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年)   

收费标准（元/样品）   

联系方式 

联系人 高崐  

联系电话 18792539151  

传真 8029-3395052  

电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn