多靶材共集磁控溅射系统
发布日期:2015/3/25 14:55:51
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设备名称:多靶材共集磁控溅射系统 

仪器型号:Explorer 14  

所属单位:西安交通大学 

设备原值:230 万元 

制造厂商:Denton Vacuum  

生产国别:美国 

当前状态:对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 技术参数: 1.5×10-10 Torr 极限真空 2.RF偏压基板最高可升温到500℃ 3.4〃标准载物台 4.3路工艺气体为O2,N2, Ar 主要特点 1.3英寸阴极靶枪,射频溅射×1,直流溅射×2 2.355mm直径真空室配置水冷、加热、抽气等装置 3.共聚焦靶枪布局,可实现共溅射 4.计算机控制,远程操作与诊断 5.真空室直径20×20英寸 6.机械泵,分子泵,液氮冷阱复合真空系统 

功能/应用范围 ProcessPro计算机全自动控制系统,有维修模式,手动模式以及自动模式,自动模式一键式操作完成整个工艺,保证工艺的精确控制。3个靶枪共焦布局可实现金属,磁性金属及介电材料的独立溅射与复合溅射,功能更强,用途更广泛  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年)   

收费标准(元/样品)   

联系方式 

联系人 王久洪  

联系电话 13201543166  

传真 83395052  

电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn 



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