设备名称:多靶材共集磁控溅射系统
仪器型号:Explorer 14
所属单位:西安交通大学
设备原值:230 万元
制造厂商:Denton Vacuum
生产国别:美国
当前状态:对外服务
仪器设备详细指标
主要技术指标 技术参数: 1.5×10-10 Torr 极限真空 2.RF偏压基板最高可升温到500℃ 3.4〃标准载物台 4.3路工艺气体为O2,N2, Ar 主要特点 1.3英寸阴极靶枪,射频溅射×1,直流溅射×2 2.355mm直径真空室配置水冷、加热、抽气等装置 3.共聚焦靶枪布局,可实现共溅射 4.计算机控制,远程操作与诊断 5.真空室直径20×20英寸 6.机械泵,分子泵,液氮冷阱复合真空系统
功能/应用范围 ProcessPro计算机全自动控制系统,有维修模式,手动模式以及自动模式,自动模式一键式操作完成整个工艺,保证工艺的精确控制。3个靶枪共焦布局可实现金属,磁性金属及介电材料的独立溅射与复合溅射,功能更强,用途更广泛
服务领域 农/林/牧/渔 轻工/纺织 石油/石化 食品/烟草 地质/矿产 矿业/冶金 钢铁/有色金属 水文气象 非金属/珠宝 橡胶/塑料(材料) 通信/邮政 机械制造 医疗/卫生 生物/医药 地质勘探 电气工程 仪器/仪表 航空/航天 电子/信息技术 交通/运输(公路/铁路) 环保/水利/气象/天文 其它
技术特色
服务情况及收费标准
对外服务(平均机时/年)
收费标准(元/样品)
联系方式
联系人 王久洪
联系电话 13201543166
传真 83395052
电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
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