设备名称:深干法刻蚀机
仪器型号:Oxford PlasmalabSystem100
所属单位:西安交通大学
设备原值:380 万元
制造厂商:Oxford
生产国别:英国
当前状态:对外服务
仪器设备详细指标
主要技术指标 电感耦合等离子体刻蚀(ICP)与反应离子刻蚀(RIE刻蚀)模式。可进行低温硅刻蚀,深硅刻蚀和SOI工艺。
功能/应用范围 无
服务领域 农/林/牧/渔 轻工/纺织 石油/石化 食品/烟草 地质/矿产 矿业/冶金 钢铁/有色金属 水文气象 非金属/珠宝 橡胶/塑料(材料) 通信/邮政 机械制造 医疗/卫生 生物/医药 地质勘探 电气工程 仪器/仪表 航空/航天 电子/信息技术 交通/运输(公路/铁路) 环保/水利/气象/天文 其它
技术特色
服务情况及收费标准
对外服务(平均机时/年)
收费标准(元/样品)
联系方式
联系人 王久洪
联系电话 13201543166
传真 83395052
电子邮件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
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