通辽科技大市场暨内蒙古东部常设技术市场

设备名称：电子束光刻机 

仪器型号：CABL-9000C 

所属单位：西安交通大学 

设备原值：700 万元 

制造厂商：CRESTEC  

生产国别：日本 

当前状态：对外服务 

仪器设备详细指标 

主要技术指标 技术参数：电子束光刻系统/电子束直写系统/电子束曝光系统 1.最小线宽：小于10nm（8nm available) 2.加速电压：1-50kV 3.电子束直径：小于2nm 4.套刻精度：20nm(mean+2σ) 5.拼接精度：20nm(mean+2σ) 6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option) 7.描电镜分辨率：小于2nm 

功能/应用范围 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。CABL-9000C系列最小线宽可达8nm，最小束斑直径2nm，套刻精度 20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。  

服务领域  农/林/牧/渔  轻工/纺织  石油/石化  食品/烟草  地质/矿产  矿业/冶金  钢铁/有色金属  水文气象  非金属/珠宝  橡胶/塑料(材料)  通信/邮政  机械制造  医疗/卫生  生物/医药  地质勘探  电气工程  仪器/仪表  航空/航天  电子/信息技术  交通/运输(公路/铁路)  环保/水利/气象/天文  其它   

技术特色   

服务情况及收费标准 

对外服务(平均机时/年)   

收费标准（元/样品）   

联系方式 

联系人 张亮亮  

联系电话 13772544959