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一种低真空氛围靶材制备系统
发布日期：2021/5/31 15:32:10
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[实用新型] 一种低真空氛围靶材制备系统

  • 授权公告号：CN213295474U
  • 授权公告日：2021.05.28
  • 申请号：2019224142106
  • 申请日：2019.12.27
  • 专利权人：梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 发明人：蔺裕平; 韩刚库
  • 地址：214437江苏省无锡市江阴市高新区金山路201号
  • 分类号：C23C4/134(2016.01)I; C23C4/137(2016.01)I  全部
摘要： 本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统，喷涂密封舱(101)内安装有靶材驱动总成；靶材驱动总成包含有位于喷涂密封舱(101)底面上的滑轨(302)，有一滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上，所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401)，左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上，靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上，安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统，其能够在真空环境下进行喷涂，从而保证靶材的喷涂质量。

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