本实用新型提供一种清洗槽及晶圆槽式清洗机,其中,所述清洗槽包括槽体和设于所述槽体内的多个扰流件,所述槽体具有用于放置晶圆的晶圆放置区域,多个所述扰流件围绕所述晶圆放置区域依次设置,且各所述扰流件沿所述槽体的高度方向延伸设置。利用本实用新型提供的一种清洗槽及晶圆槽式清洗机,通过在所述槽体内设置的多个所述扰流件阻碍或者改变部分所述清洗液的原有运行状态,提高所述槽体内的流场均匀性,从而有效避免由于所述清洗槽内因所述清洗液流场不均匀而导致所述晶圆表面的杂质颗粒无法被清洗干净或者由于扰流现象而使存在于所述清洗液内的其他杂质颗粒二次粘附在所述晶圆表面的问题,进而提高晶圆良率。
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